1.產(chǎn)品用途:HDW-930適用于半導(dǎo)體晶片華佗后的清洗,對晶片上的殘留膠、化陀液等有很好的清洗效果,對晶片安全無腐蝕。
2.適用范圍:適用于半導(dǎo)體晶片。
01較強(qiáng)的滲透乳化性,去污速度快,清洗能力強(qiáng),洗凈率高;
02適用濃度低,對油污容納量高,使用壽命長;
03配合超聲波洗滌效果更佳;
04高效環(huán)保水基清洗劑,不含ODS、鹵代烴類等有害物質(zhì),操作安全,對環(huán)境友好;
05符合國家RoSH檢驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)。
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濃度 |
溫度 |
時間 |
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8-12% |
75-85℃ |
5-10min |
先將純水注入到潔凈的清洗槽2/3處,加熱至50℃左右,加入HDW-930清洗劑,再升溫至工作溫度即可。
參考工藝:
HDW-930超聲洗滌----噴淋----漂洗-----HDW-930超聲洗滌----噴淋漂洗3----熱水洗----風(fēng)切----烘干
產(chǎn)品規(guī)格:25Kg/桶;
本品存放在陰涼干燥的地方;
作業(yè)時,請戴好防護(hù)手套;
本品無刺激性,若濺到衣物、機(jī)器、地板上,應(yīng)立即擦干用水沖洗。
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